2023-10-13sistema per la rimozione di materiali in plasma della tipologia RIE Reactive Ion Etching (ISTITUTO DI FOTONICA E NANOTECNOLOGIE DEL CNR)
fornitura, l’installazione e la messa in funzione di un sistema di Plasma Etching per la rimozione in plasma di Ossidi, Ossi-nitruri e Nitruri di silicio, Poli-silicio, drogato e non drogato su lotti di produzione da 25 wafer di substrati da 150 mm, predisposti per trattare substrati da 200 mm. L‘apparecchiatura sarà collocata in modalità through the wall presso la cleanroom DETECTOR della Micro-nano Characterization and Fabrication Facility, Fondazione Bruno Kessler di Trento, in via Sommarive 18.Lo …
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2023-09-26due sistemi laser a femtosecondi a CR:ZnS (ISTITUTO DI FOTONICA E NANOTECNOLOGIE DEL CNR)
2 (due) sistemi laser a femtosecondo a Cr:ZnS alla lunghezza d’onda di 2.4 μm con potenza media >2 W,
frequenza di ripetizione >80 MHz, durata degli impulsi 35 fs, e con la possibilità di controllare stabilizzare
la frequenza di ripetizione e la fase assoluta degli impulsi. I due sistemi laser richiesti saranno utilizzati per
assemblare uno spettrometro a larga banda basato sulla metodologia della interferometria a doppio pettine di
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frequenza (dual-comb spectroscopy) obiettivo finale della attività …
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