fornitura, l’installazione e la messa in funzione di un sistema di Plasma Etching per la rimozione in plasma di Ossidi, Ossi-nitruri e Nitruri di silicio, Poli-silicio, drogato e non drogato su lotti di produzione da 25 wafer di substrati da 150 mm, predisposti per trattare substrati da 200 mm. L‘apparecchiatura sarà collocata in modalità through the wall presso la cleanroom DETECTOR della Micro-nano Characterization and Fabrication Facility, Fondazione Bruno Kessler di Trento, in via Sommarive 18.Lo spazio disponibile massimo per l’apparecchiatura è di 1.35 m (larghezza), 2.5 m (profondità), 2.4 m (altezza). Il Concorrente dovrà indicare l’ingombro dell’apparecchiatura, incluse le aree di servizio (clearance) ottimizzando la disposizione all’interno della stessa. Saranno escluse le apparecchiature il cui ingombro eccede l’area disponibile.
Scadenza
Il termine per la ricezione delle offerte era 2023-11-09.
L'appalto è stato pubblicato su 2023-10-13.
Avviso di gara (2023-10-13) Amministrazione aggiudicatrice Nome e indirizzi
Nome: Istituto di fotonica e nanotecnologie del cnr
Numero di registrazione nazionale: 80054330586
Indirizzo postale: Via Sommarive 18
Città postale: Trento
Codice postale: 38128
Paese: Italia 🇮🇹
Persona di contatto: Alessandra brocca
Telefono: +39 0223996281📞
E-mail: alessandra.brocca@ifn.cnr.it📧
Regione: Trento🏙️
URL: www.cnr.it🌏
Indirizzo del profilo dell'acquirente: www.cnr.it🌏 Comunicazione
L'accesso ai documenti di appalto è limitato
URL dei documenti: www.cnr.it🌏
URL di partecipazione: www.acquistiinretepa.it🌏 Tipo di amministrazione aggiudicatrice
Altro tipo: ente pubblico nazionale
Oggetto Ambito di applicazione dell'appalto
Titolo:
“sistema per la rimozione di materiali in plasma della tipologia RIE Reactive Ion Etching
A01C1D6834”
Prodotti/servizi: Ricerca, sperimentazione e simulatori tecnico-scientifici📦
Breve descrizione:
“fornitura, l’installazione e la messa in funzione di un sistema di Plasma Etching per la rimozione in plasma di Ossidi, Ossi-nitruri e Nitruri di silicio,...”
Breve descrizione
fornitura, l’installazione e la messa in funzione di un sistema di Plasma Etching per la rimozione in plasma di Ossidi, Ossi-nitruri e Nitruri di silicio, Poli-silicio, drogato e non drogato su lotti di produzione da 25 wafer di substrati da 150 mm, predisposti per trattare substrati da 200 mm. L‘apparecchiatura sarà collocata in modalità through the wall presso la cleanroom DETECTOR della Micro-nano Characterization and Fabrication Facility, Fondazione Bruno Kessler di Trento, in via Sommarive 18.Lo spazio disponibile massimo per l’apparecchiatura è di 1.35 m (larghezza), 2.5 m (profondità), 2.4 m (altezza). Il Concorrente dovrà indicare l’ingombro dell’apparecchiatura, incluse le aree di servizio (clearance) ottimizzando la disposizione all’interno della stessa. Saranno escluse le apparecchiature il cui ingombro eccede l’area disponibile.
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Valore stimato al netto dell'IVA: EUR 850 000 💰
1️⃣
Luogo di esecuzione: Trento🏙️
Sede principale o luogo di esecuzione:
“CNR-IFN TRENTO laboratorio Cleanroom CR D presso la Fondazione Bruno Kessler, Via Sommarive 18, 38123 Povo – Trento
modalità di collocazione della...”
Sede principale o luogo di esecuzione
CNR-IFN TRENTO laboratorio Cleanroom CR D presso la Fondazione Bruno Kessler, Via Sommarive 18, 38123 Povo – Trento
modalità di collocazione della strumentazione: throught the wall
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Descrizione dell'appalto:
“fornitura, l’installazione e la messa in funzione di un sistema di Plasma Etching per la rimozione in plasma di Ossidi, Ossi-nitruri e Nitruri di silicio,...”
Descrizione dell'appalto
fornitura, l’installazione e la messa in funzione di un sistema di Plasma Etching per la rimozione in plasma di Ossidi, Ossi-nitruri e Nitruri di silicio, Poli-silicio, drogato e non drogato su lotti di produzione da 25 wafer di substrati da 150 mm, predisposti per trattare substrati da 200 mm. L‘apparecchiatura sarà collocata in modalità through the wall presso la cleanroom DETECTOR della Micro-nano Characterization and Fabrication Facility, Fondazione Bruno Kessler di Trento, in via Sommarive 18.Lo spazio disponibile massimo per l’apparecchiatura è di 1.35 m (larghezza), 2.5 m (profondità), 2.4 m (altezza). Il Concorrente dovrà indicare l’ingombro dell’apparecchiatura, incluse le aree di servizio (clearance) ottimizzando la disposizione all’interno della stessa. Saranno escluse le apparecchiature il cui ingombro eccede l’area disponibile.
Mostra di più Criteri di assegnazione
Criterio di qualità (nome): pregio tecnico
Criterio di qualità (ponderazione): 70
Prezzo (ponderazione): 30
Ambito di applicazione dell'appalto
Valore totale stimato, IVA esclusa: EUR 850 000 💰
Durata del contratto, dell'accordo quadro o del sistema dinamico di acquisizione Descrizione
Durata: 365
Ambito di applicazione dell'appalto
Informazioni sui fondi dell'Unione Europea:
“(PNRR) MISSIONE 4 “Istruzione e Ricerca” COMPONENTE 2 “Dalla ricerca all’impresa” INVESTIMENTO 3.1 “Fondo per la realizzazione di un sistema integrato di...”
Informazioni sui fondi dell'Unione Europea
(PNRR) MISSIONE 4 “Istruzione e Ricerca” COMPONENTE 2 “Dalla ricerca all’impresa” INVESTIMENTO 3.1 “Fondo per la realizzazione di un sistema integrato di infrastrutture di ricerca e innovazione” PROGETTO NFFA-DI ”NANO FOUNDRIES AND FINE ANALYSIS - DIGITAL INFRASTRUCTURE" CUP B53C22004310006
Informazioni legali, economiche, finanziarie e tecniche Posizione economica e finanziaria
Criteri di selezione come indicato nei documenti di gara
Capacità tecnica e professionale
Criteri di selezione come indicato nei documenti di gara
Procedura Tipo di procedura
Procedura aperta
Informazioni amministrative
Termine per la ricezione delle offerte o delle domande di partecipazione: 2023-11-09
17:00 📅
Lingue in cui possono essere presentate le offerte o le domande di partecipazione: italiano 🗣️
L'arco di tempo indicato di seguito è espresso in numero di mesi.
Periodo di tempo minimo durante il quale l'offerente deve mantenere l'offerta: 6
Condizioni per l'apertura delle offerte: 2023-11-10
11:00 📅
Condizioni per l'apertura delle offerte (luogo): Piattaforma telematica asp
Informazioni complementari Corpo di revisione
Nome: Tribunale amministrativo regionale del lazio
Indirizzo postale: VIA FLAMINIA, 189
Città postale: Roma
Codice postale: 00196
Paese: Italia 🇮🇹
Telefono: +39 06328721📞
E-mail: tarrm-segrprotocolloamm@ga-cert.it📧
Fax: +39 32872315 📠
URL: www.giustiziaammnistrativa.it🌏
Fonte: OJS 2023/S 201-629715 (2023-10-13)
Avviso di aggiudicazione (2023-11-10) Oggetto Ambito di applicazione dell'appalto
Breve descrizione:
“GARA DESERTA PER MANCANZA DI OFFERTE
fornitura, l’installazione e la messa in funzione di un sistema di Plasma Etching per la rimozione in plasma di Ossidi,...”
Breve descrizione
GARA DESERTA PER MANCANZA DI OFFERTE
fornitura, l’installazione e la messa in funzione di un sistema di Plasma Etching per la rimozione in plasma di Ossidi, Ossi-nitruri e Nitruri di silicio, Poli-silicio, drogato e non drogato su lotti di produzione da 25 wafer di substrati da 150 mm, predisposti per trattare substrati da 200 mm. L‘apparecchiatura sarà collocata in modalità through the wall presso la cleanroom DETECTOR della Micro-nano Characterization and Fabrication Facility, Fondazione Bruno Kessler di Trento, in via Sommarive 18.Lo spazio disponibile massimo per l’apparecchiatura è di 1.35 m (larghezza), 2.5 m (profondità), 2.4 m (altezza). Il Concorrente dovrà indicare l’ingombro dell’apparecchiatura, incluse le aree di servizio (clearance) ottimizzando la disposizione all’interno della stessa. Saranno escluse le apparecchiature il cui ingombro eccede l’area disponibile.
Mostra di più Descrizione
Descrizione dell'appalto:
“GARA DESERTA - NESSUNA OFFERTA PRESENTATA
fornitura, l’installazione e la messa in funzione di un sistema di Plasma Etching per la rimozione in plasma di...”
Descrizione dell'appalto
GARA DESERTA - NESSUNA OFFERTA PRESENTATA
fornitura, l’installazione e la messa in funzione di un sistema di Plasma Etching per la rimozione in plasma di Ossidi, Ossi-nitruri e Nitruri di silicio, Poli-silicio, drogato e non drogato su lotti di produzione da 25 wafer di substrati da 150 mm, predisposti per trattare substrati da 200 mm. L‘apparecchiatura sarà collocata in modalità through the wall presso la cleanroom DETECTOR della Micro-nano Characterization and Fabrication Facility, Fondazione Bruno Kessler di Trento, in via Sommarive 18.Lo spazio disponibile massimo per l’apparecchiatura è di 1.35 m (larghezza), 2.5 m (profondità), 2.4 m (altezza). Il Concorrente dovrà indicare l’ingombro dell’apparecchiatura, incluse le aree di servizio (clearance) ottimizzando la disposizione all’interno della stessa. Saranno escluse le apparecchiature il cui ingombro eccede l’area disponibile.
Procedura Informazioni amministrative
Pubblicazione precedente relativa a questa procedura: 2023/S 201-629715
Aggiudicazione del contratto
1️⃣
Titolo:
“sistema per la rimozione di materiali in plasma della tipologia RIE Reactive Ion Etching” Informazioni sulla non aggiudicazione
Non sono state ricevute offerte o richieste di partecipazione o sono state tutte respinte
Informazioni complementari Informazioni aggiuntive
La gara e' andata deserta in quanto non sono pervenute offerte
Fonte: OJS 2023/S 220-692669 (2023-11-10)