Fornitura di un impianto per la deposizione di film sottili mediante tecnologia PVD e PECVD

Istituto poligrafico e zecca dello Stato SpA

Impianto dotato di tecnologia combinata PVD e PECVD per la deposizione di strati sottili di metalli, ossidi metallici e compositi, da deporre su fogli di materiale plastico di spessore compreso tra 100 e 500 ฮผm.

Scadenza
Il termine per la ricezione delle offerte era 2018-01-31. L'appalto รจ stato pubblicato su 2017-12-14.

Chi?

Cosa?

Dove?

Storia dell'approvvigionamento
Data Documento
2017-12-14 Avviso di gara