Nanoimprint lithography

Consiglio Nazionale delle Ricerche โ€” Istituto per la Microelettronica e Microsistemi โ€” UOS Bologna

Sistema per Litografia a Contatto near-UV (Ultra Violet) e deep UV (DUV) con allineamento fronte e nanoimprint assistito da UV, utilizzabile su wafer da 4 pollici e adattabile a wafer da 6 pollici.

Scadenza
Il termine per la ricezione delle offerte era 2014-05-29. L'appalto รจ stato pubblicato su 2014-04-14.

Fornitori
I seguenti fornitori sono menzionati nelle decisioni di aggiudicazione o in altri documenti di appalto:
Chi?

Cosa?

Storia dell'approvvigionamento
Data Documento
2014-04-14 Avviso di gara
2014-07-31 Avviso di aggiudicazione