Sistema di deposizione di strati atomici (ALD) capace di processi termici e plasma assistiti

Fondazione istituto italiano di tecnologia

Sistema di deposizione di strati atomici (ALD) capace di processi termici e plasma assistiti.

Scadenza
Il termine per la ricezione delle offerte era 2012-12-19. L'appalto รจ stato pubblicato su 2012-11-08.

Fornitori
I seguenti fornitori sono menzionati nelle decisioni di aggiudicazione o in altri documenti di appalto:
Chi?

Cosa?

Dove?

Storia dell'approvvigionamento
Data Documento
2012-11-08 Avviso di gara
2013-08-28 Avviso di aggiudicazione